解決方(fāng)案

專注於半(bàn)導體前端工藝設備的研發(fā)與生產製造

3D NAND

發布時間:2021-08-25

底部選擇(zé)門(mén)-在3D NAND中有限(xiàn)應用,在溝道底部生長致密單晶矽,工藝具有挑戰性。


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